半導体プロセスで書かせないリソグラフィ。
そしてリソグラフィの過程で、基盤に何度もパターンを形成しなければならない事もあります。
１回目の露光をしたあとに、精度良く次の露光をするときに、同じ位置にすることはかなり難しいです。
なので、位置を合わせるための、『位置合わせマーク』が必要になります。
この位置合わせマークの事を『アライメントマーク』と言います。
アライメントマークの上にレジストが塗られたらどうする？
まず１つ目の露光をします。
そしてエッチングしてパターニングを
します。
そうすると、次の露光をするとき、
レジストを塗布しますので、
レジストに覆われているアライメントを
気付く事が必要になります。
なので、
『反射電子像』を観測する必要があります。
反射電子像とは、
入射電子が原子に衝突して広報愛面に反射され、試料表面から飛び出した電子による像であり、反射電子の強度は試料の原子番号が大きいほど大きい
反射電子のエネルギーは入射電子のエネルギーに近いので、脱出深さは深く、レジストを通過しうる。
なのでこのように汚れが多少ついていても通過してマークを検出する事が出来ます。
アライメントマークに適した原子
アライメントマークは反射電子像を得て確認するとお話ししました。
そしてこの反射電子像は、原子番号が大きいほど良いのでした。なので一般的にAu(金)原子番号79が用いられます。
100nm程度の厚さの十字のマークを形成します。
このマークを機転にして、露光を行う事で一合わせを行います。
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